論壇邀請多位來自國內外的重要技術專家,包括鴻海研究院半導體所所長暨交大講座教授郭浩中、之光半導體技術長陳昇祐、西門子EDA顧問Vincent Lai、駿河精機經理游智閔,以及英國Wave Photonics執行長James Lee,共同探討矽光子產業化的關鍵挑戰與應用實務。

恩萊特科技總經理蘇正宇表示,傳統電氣互連技術已難以應對高速與低延遲的資料傳輸需求,矽光子因具備高頻寬、低能耗等優勢,有望帶來數量級的效能提升。「推動設計自動化與製造鏈整合,是邁向矽光子量產的關鍵。恩萊特將持續整合設計平台與製程夥伴,協助客戶建立完整矽光子設計流程。」

恩萊特在論壇展示其代理的之光半導體開發之矽光子設計平台 PIC Studio,支援從電光共模模擬、封裝參數分析,到PDK佈局與DRC驗證等完整設計流程,已獲超過百家學研與商業單位採用。郭浩中指出:「這是目前最完整、最實用的光子設計軟體之一,可大幅縮短設計週期並提高設計效率。」

同時,恩萊特亦介紹與西門子EDA的合作,整合其電子設計工具L-Edit與Photonics解決方案,協助IC設計工程師在熟悉的設計環境中快速導入光子元件設計與驗證,加速團隊跨域轉型。針對製程良率與PDK建模優化,英國Wave Photonics則展示其AI驅動的PDK自動化技術,可快速因應製程變異、建立高良率元件庫,提升量產穩定性。

恩萊特表示,矽光子技術要邁向真正的產業落地,不僅需要設計與製程的整合,更需緊密結合晶圓代工、封測、系統端等完整產業鏈。未來將與台灣各大晶圓與系統業者擴大合作,建立可量產的EPDA工作流程,強化客戶在全球矽光市場的競爭力。隨著國際矽光子市場規模預估年年攀升,恩萊特將持續深化技術布局,搶占下一波數位基礎設施升級的重要契機。


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